1 天津工业大学 材料科学与工程学院, 天津 300387
2 天津工业大学 分离膜材料与膜过程国家重点实验室, 天津 300387
3 北京空间飞行器总体设计部, 北京 100086
为了减少磁控溅射法沉积MgF2薄膜的F贫乏缺陷, 在工作气体Ar2中加入SF6作为反应气体, 在石英玻璃衬底上用射频磁控溅射法制备了MgF2薄膜, 研究了溅射功率对MgF2薄膜化学成分、微观结构和光学性能的影响。结果表明, 随着溅射功率从115 W增加到220 W, F: Mg的原子比不断增加, 185 W时达到2.02, 最接近理想化学计量比2 : 1;薄膜的结晶度先提高后降低, 最后转变为非晶态; MgF2薄膜的颗粒尺寸先是有所增加, 轮廓也变得更加清晰, 最后又变得模糊。MgF2薄膜的折射率先减小后增大, 在185 W时获得最低值, 550 nm波长的折射率1.384非常接近MgF2块体晶体;镀膜玻璃在300~1100 nm范围内的透光率(以下简称薄膜透光率)先增大后减小, 185 W时达到94.99%, 比玻璃基底的透光率高出1.79%。
MgF2薄膜 F贫乏 透光率 减反射 溅射功率 磁控溅射 MgF2 thin film F deficiency transmittance antireflection sputtering power magnetron sputtering
1 华东理工大学 机械与动力工程学院 承压系统安全科学教育部重点实验室, 上海 200237
2 华东理工大学 资源与环境工程学院, 上海 200237
采用一种相对简单而又精确的光度法来计算弱吸收基底上弱吸收薄膜的光学常数, 为低损耗紫外薄膜的设计与实现提供了理论基础。采用JGS1型熔融石英基底, 制备了MgF2与LaF3材料的单层膜, 获得了JGS1型熔融石英基底及MgF2与LaF3薄膜的光学常数色散曲线。结果显示：在200 nm左右处, JGS1型熔融石英基底的吸收已经比较明显, 消光系数在10-8量级, 因此, 应考虑基底的弱吸收, 以提高薄膜光学常数的计算精度。
紫外薄膜 光度法 光学常数 MgF2薄膜 LaF3薄膜 ultraviolet film photometric method optical constants MgF2 film LaF3 film
1 中国科学技术大学结构分析开放研究实验室,安徽,合肥,230026
2 中国科学技术大学物理系,安徽,合肥,230026
本文采用脉冲激光淀积方法(PLD)制备了MgF2光学薄膜,并对其表面形貌以及光学性质进行了测试分析,X射线光电子能谱分析显示MgF2样品具有很好的化学组分配比,F/Mg原子比在1.9～2.1之间,接近于体材料;在可见光波段其光学透过率为60%～80%,在红外波段更是达到了90%以上,由KK变换计算MgF2的折射率大约为1.39,也接近于体材料的折射率1.38.
薄膜光学 脉冲激光淀积 MgF2薄膜 透过率 film optics pulsed laser depostion MgF2 film transmittance
