1 中国科学技术大学结构分析开放研究实验室,安徽,合肥,230026
2 中国科学技术大学物理系,安徽,合肥,230026
本文采用脉冲激光淀积方法(PLD)制备了MgF2光学薄膜,并对其表面形貌以及光学性质进行了测试分析,X射线光电子能谱分析显示MgF2样品具有很好的化学组分配比,F/Mg原子比在1.9～2.1之间,接近于体材料;在可见光波段其光学透过率为60%～80%,在红外波段更是达到了90%以上,由KK变换计算MgF2的折射率大约为1.39,也接近于体材料的折射率1.38.
薄膜光学 脉冲激光淀积 MgF2薄膜 透过率 film optics pulsed laser depostion MgF2 film transmittance
用YAG脉冲激光轰击真空室内的石墨靶, 可以形成包含碳素的激光等离子体, 并在硅或石英衬底上淀积形成某种类型的碳膜。 用光学多道分析仪原位测量了激光等离子体的发射光谱, 给出反应空间可能存在的反应基团有碳原子、 碳离子、 碳分子等, 用拉曼光谱研究了薄膜的结构, 证明所形成的薄膜为类金刚石膜, 并得出碳原子和碳离子与薄膜的类金刚石结构有关。 制备过程中, 氢的参与有利于薄膜中 金刚石成分的形成。 空间分辨的原位激光等离子体发射光谱表明, 在反应空间存在薄膜形 成的最佳位置。
激光等离子体 原位发射光谱 类金刚石薄膜
中国科学技术大学物理系结构分析开放实验室, 合肥 230026
将激光染料分子有效地嵌入多孔硅中，获得多孔硅/染料分子复合体。嵌入微量染料分子时，复合体的发光兼有多孔硅和激光染料两者的发光特征，增加染料分子的嵌入量，复合体的发光增强，荧光的时间响应快，脉宽窄，主要表现为激光染料的发光特性。复合体的发光峰位比染料的乙醇溶液有明显兰移。
多孔硅 激光染料 荧光
用第一性原理方法得到了金属Mo的微观电子结构信息,并用电子结构信息精确计算了介质极化矩阵元,从而给出了Mo的介电常数虚部和光电导谱.理论结果与实验符合甚佳.
电子结构 光学性质 过渡金属
用高功率的Nd3+:YAG脉冲激光轰击真空室内的石墨靶,形成激光等离子体雾状物质,在硅衬底上沉积形成类金刚石薄膜.用椭圆偏振光谱法测量不同衬底温度下制备的系列样品的厚度和折射率,发现随着衬底温度的升高,薄膜的厚度减小而折射率增大,这种可以控制折射率变化的薄膜,可能为光学增透增反膜的制备提供一种新方法.
类金刚石薄膜 折射率 YAG激光
