在光敏面上镀制荧光薄膜将紫外光转变为可见光, 是提高CCD和CMOS图像传感器紫外响应灵敏度的一种有效方法。 针对荧光薄膜入射界面的散射和反射损耗降低荧光发光强度的分析, 研究在荧光薄膜上镀制增透膜和阻隔膜的灵敏度增强特性。 采用真空热阻蒸发的镀膜方法分别制备了单层Lumogen荧光薄膜和MgF2/Lumogen复合膜。 利用原子力显微镜, 紫外可见近红外分光光度计, 荧光光谱仪对两种样品的表面粗糙度, 漫反射和透射光谱以及荧光发光光谱分别进行对比测试分析。 结果表明: MgF2保护层降低了表面粗糙度, 减小了入射界面的漫反射损耗, 对500～700 nm的可见波段具有明显增透作用, 也增强了Lumogen薄膜对紫外波段受激发射的荧光强度; 同时, MgF2薄膜的抗损伤及水汽隔离性能对荧光薄膜紫外响应能力具有保护作用, 为延长紫外CCD薄膜及器件的工作寿命提供了有效手段。

为了减小空间紫外遥感仪器(SURSI)光谱响应度定标不确定度，实现SURSI在轨的高精度探测，对SURSI定标环境进行了深入的分析研究。利用光学薄膜的电磁场理论数值计算出铝+氟化镁膜在250~400 nm波段，真空和大气两种环境下的反射率值并进行比对。通过构建SURSI真空/大气响应度比对测试研究系统，对SURSI整机光谱响应度在两种环境下的差异进行了实验研究，在250~400 nm波段，平均偏差可达3.8%。理论分析及实验结果表明：受仪器内部光学元件铝+氟化镁膜光学性质的影响，SURSI光谱响应度在真空和大气不同环境下存在明显差异，且偏差值具有波长相关性，直接说明SURSI辐射定标在真空环境下完成的必要性。

采用一种相对简单而又精确的光度法来计算弱吸收基底上弱吸收薄膜的光学常数, 为低损耗紫外薄膜的设计与实现提供了理论基础。采用JGS1型熔融石英基底, 制备了MgF2与LaF3材料的单层膜, 获得了JGS1型熔融石英基底及MgF2与LaF3薄膜的光学常数色散曲线。结果显示：在200 nm左右处, JGS1型熔融石英基底的吸收已经比较明显, 消光系数在10-8量级, 因此, 应考虑基底的弱吸收, 以提高薄膜光学常数的计算精度。

本文采用脉冲激光淀积方法(PLD)制备了MgF2光学薄膜,并对其表面形貌以及光学性质进行了测试分析,X射线光电子能谱分析显示MgF2样品具有很好的化学组分配比,F/Mg原子比在1.9～2.1之间,接近于体材料;在可见光波段其光学透过率为60%～80%,在红外波段更是达到了90%以上,由KK变换计算MgF2的折射率大约为1.39,也接近于体材料的折射率1.38.