1 中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 应用光学国家重点实验室， 长春 130033
2 中国科学院 研究生院，北京 100039
概述了193nm薄膜激光诱导损伤的研究进展。通过对紫外到深紫外波段几种典型薄膜损伤形貌的介绍，对比分析了193nm薄膜激光诱导损伤的可能原因。指出在该波段的氧化物薄膜损伤中，吸收是导致薄膜大块损伤的重要因素，而氟化物的薄膜损伤则是由沉积过程的膜层局部缺陷造成。根据薄膜样品的损伤分析表明，薄膜的某些制备参量与激光损伤阈值相关联。为提高薄膜元件的抗激光损伤能力，分别从薄膜材料的选择、膜系设计的完善以及沉积工艺的优化等3个方面出发，总结出改善薄膜激光损伤阈值的方法。
薄膜 损伤形貌 激光损伤阈值 thin films 193nm 193nm damage morphology laser induced damage threshold
1 华东理工大学机械与动力工程学院承压系统安全科学教育部重点实验室,上海200237
2 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800
对应用于193nm反射膜的基底材料、薄膜材料、沉积技术与主要沉积工艺参数进行了分析与优化选择,在此基础上进行了193nm反射膜的设计、制备及后处理,实现了时间稳定性与环境稳定性良好的193nm反射膜,反射率达98%以上.
反射膜 反射率 光学稳定性 193nm
中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800
193nm的ArF准分子激光光刻可将特征线宽推进到0.10μm。重点介绍了193nm薄膜的研究进展及影响薄膜性能的主要因素，并对具体的研究方向进行了总结。
光刻 光学薄膜
简述了深紫外和频晶体CLBO的光学特性.根据相位匹配角公式、非线性有效系数公式、走离角公式和允许角公式,详细计算了CLBO晶体和频产生193 nm激光时的相位匹配角、非线性有效系数、和频时谐波走离角、允许角的具体数值.根据这些数值,并考虑产业化的要求,对目前几种和频方式进行了比较,最终选定波长为λ1=2 100 nm的o光和波长为λ2=213 nm的e光作为基频光进行和频的匹配方式.此方式相位匹配角为51.6°,具有大的非线性有效系数0.97,小的走离角3.7°,大的允许角1.9×10-6 rad·mm,是非常理想的产生193 nm激光的匹配方式.
频率变换 CLBO晶体 和频 193nm激光 Frequency conversion CLBO crystal Sum-frequency 193 nm laser 强激光与粒子束
2005, 17(10): 1489
上海第二医科大学激光医学研究室, 上海 200025
