首页 > 论文 > 中国激光 > 40卷 > 9期(pp:908001--1)

光刻机光瞳整形衍射光学元件远场多参数检测方法

Far-Field Multi-Parameter Measurement of Diffractive Optical Element for Pupil Shaping in Lithography System

  • 摘要
  • 论文信息
  • 参考文献
  • 被引情况
  • PDF全文
分享:

摘要

光刻机光瞳整形普遍采用衍射光学元件(DOE)来产生各种照明模式。针对其光学特性的检测需求,提出了一种光刻机光瞳整形DOE远场多参数检测方法。该方法通过对远场光强分布进行转换,可同时获得DOE远场衍射图样的极平衡性、极张角、极方位角、半孔径角和径向光强分布等多种光学特性参数。实验中,对国外加工的产生四极照明模式的DOE进行了远场多参数检测与分析,结果表明该方法可以满足光刻机光瞳整形DOE的检测要求。

Abstract

Diffractive optical element (DOE) is widely used to generate various illumination modes for pupil shaping in the lithography system. A far-field multi-parameter measuring method for the DOE is proposed according to its testing requirements of optical performance. The multi-parameters of optical performance, such as the pole balance, the pole opening angle, the pole azimuth angle, the semi-aperture angle, and the radial intensity distribution are obtained simultaneously by converting the far-field intensity distribution. The multi-parameter measurement and analysis of DOE made abroad are done experimentally. And the experimental results indicate that this measuring method can be applied to the testing of DOE for pupil shaping in the lithography system.

广告组1 - 空间光调制器+DMD
补充资料

中图分类号:O438

DOI:10.3788/cjl201340.0908001

所属栏目:测量与计量

基金项目:国家国际科技合作项目(2011DFR10010)、国家科技重大专项课题(2011ZX02402)

收稿日期:2013-03-28

修改稿日期:2013-04-22

网络出版日期:--

作者单位    点击查看

胡中华:中科院上海光学与精密机械研究所信息光学与光电技术实验室, 上海 201800中国科学院大学, 北京 100049
朱菁:中科院上海光学与精密机械研究所信息光学与光电技术实验室, 上海 201800
杨宝喜:中科院上海光学与精密机械研究所信息光学与光电技术实验室, 上海 201800中国科学院大学, 北京 100049
彭雪峰:中科院上海光学与精密机械研究所信息光学与光电技术实验室, 上海 201800
曾爱军:中科院上海光学与精密机械研究所信息光学与光电技术实验室, 上海 201800中国科学院大学, 北京 100049
黄惠杰:中科院上海光学与精密机械研究所信息光学与光电技术实验室, 上海 201800中国科学院大学, 北京 100049

联系人作者:胡中华(huzhonghua@siom.ac.cn)

备注:胡中华(1984—),男,博士研究生,主要从事高数值孔径光学光刻技术方面的研究。

【1】Hu Zhonghua, Yang Baoxi, Zhu Jing, et al.. Pupil shaping techniques in high resolution projection exposure tools[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2011, 48(11): 111101.
胡中华, 杨宝喜, 朱菁, 等. 高分辨率投影光刻机光瞳整形技术[J]. 激光与光电子学进展, 2011, 48(11): 111101.

【2】Wang Jun, Jin Chunshui, Wang Liping, et al.. Study on the off-axis illumination for extreme ultraviolet lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2012, 32(12): 1211003.
王君, 金春水, 王丽萍, 等. 极紫外光刻离轴照明技术研究[J]. 光学学报, 2012, 32(12): 1211003.

【3】Xing Shasha, Wu Rengmao, Li Haifeng, et al.. Freeform-surface design of off-axis illumination in projection lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2011, 31(3): 0322002.
邢莎莎, 吴仍茂, 李海峰, 等. 应用于投影光刻离轴照明的自由曲面设计[J]. 光学学报, 2011, 31(3): 0322002.

【4】Zhang Wei, Gong Yan. Vector analysis of diffractive optical elements for off-axis illumination of projection lithographic system[J]. Acta Optica Sinica, 2011, 31(10): 1005002.
张巍, 巩岩. 投影光刻离轴照明用衍射光学元件的矢量分析[J]. 光学学报, 2011, 31(10): 1005002.

【5】Zhang Wei, Gong Yan. Design of diffractive optical elements for off-axis illumination in projection lithography[J]. Optics and Precision Engineering, 2008, 16(11): 2081-2086.
张巍, 巩岩. 投影光刻离轴照明用衍射光学元件设计[J]. 光学 精密工程, 2008, 16(11): 2081-2086.

【6】John E Childers, Tom Baker, Marc D Himel, et al.. Advanced testing requirements of diffractive optical elements for off-axis illumination in photolithography[C]. SPIE, 2009, 7430: 74300S.

【7】Marc D Himel, Robert E Hutchins, Jamey C Colvin. Design and fabrication of customized illumination patterns for low-k1 lithography: a diffractive approach[C]. SPIE, 2001, 4346: 1436-1442.

您的浏览器不支持PDF插件,请使用最新的(Chrome/Fire Fox等)浏览器.或者您还可以点击此处下载该论文PDF