薄膜

研究了离子束溅射（IBS）制备的Nb2O5、Ta2O5和SiO2薄膜的光学特性、机械特性（应力、硬度和杨氏模量）、薄膜微结构等特性，系统地分析了辅助离子源的离子束能量对薄膜特性的影响，并与电子束蒸发（EB）和离子辅助沉积（IAD）制备的薄膜特性进行对比。结果表明，IBS制备的薄膜具有更好的光学特性和薄膜微结构，同时具有较高的压应力、硬度和杨氏模量值。辅助离子源可以改善薄膜光学特性，调节薄膜应力和改善薄膜表面粗糙度，但对硬度和杨氏模量的影响相对较小。在不同的辅助源束流电压Ua 条件下，IBS制备Nb2O5应力值为－152～－281MPa, Ta2O5的应力为－299～－373MPa，以及SiO2应力为－427～－577MPa。在合适的工艺参数下，消光系数可小于10-4，薄膜具有很好的表面平整度，薄膜表面RMS<0.2nm。

袁文佳, 沈伟东, 郑晓雯, 杨陈楹, 章岳光, 方波, 沐雯, 陈超楠, 刘旭. 离子束溅射制备Nb2O5、Ta2O5和SiO2薄膜的光学、机械特性和微结构研究[J]. 光学学报, 2017, 37(12): 1.  复制并引用该论文