光学设计与制造

抛光液粘度是影响射流抛光效果的重要因素，针对硬脆光学元件射流抛光中对抛光液粘度缺乏系统研究的现状，研究抛光液粘度变化对材料去除函数的影响。建立射流抛光连续相、离散相模型和磨损模型，计算不同粘度下磨粒运动轨迹，分析磨料颗粒撞击速度矢量随粘度的变化规律。配置不同粘度相同质量分数的抛光液，结合BK7工件静态采斑实验研究与塑性磨损理论计算，获得不同粘度下的材料去除函数，分析粘度对去除函数的影响机制，并进一步研究由此引起的工件表面粗糙度变化。结果表明：随着抛光液粘度增大，材料去除函数的去除深度减小、去除形状及去除范围保持不变，有利于降低工件表面粗糙度。该研究扩展了现有光学元件射流抛光材料去除理论，并对实际抛光液粘度调控具有理论指导意义。

孙鹏飞, 张连新, 李建, 王中昱, 周涛. 射流抛光中抛光液粘度对材料去除函数的影响[J]. 光学学报, 2018, 38(12): 3.  复制并引用该论文