强激光与粒子束, 2013, 25 (12): 3338, 网络出版: 2013-12-16
HfO2/SiO2薄膜的激光预处理作用研究
Laser conditioning effect on HfO2/SiO2 film
基本信息
DOI: | 10.3788/hplpb20132512.3338 |
中图分类号: | O484.4 |
栏目: | 光学元件 |
项目基金: | -- |
收稿日期: | 2013-07-22 |
修改稿日期: | 2013-08-14 |
网络出版日期: | 2013-12-16 |
通讯作者: | 卫耀伟 (jimmy13637@yahoo.cn) |
备注: | -- |
卫耀伟, 张哲, 刘浩, 欧阳升, 郑轶, 唐耿宇, 陈松林, 马平. HfO2/SiO2薄膜的激光预处理作用研究[J]. 强激光与粒子束, 2013, 25(12): 3338. Wei Yaowei, Zhang Zhe, Liu Hao, Ouyang Sheng, Zheng Yi, Tang Gengyu, Chen Songlin, Ma Ping. Laser conditioning effect on HfO2/SiO2 film[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2013, 25(12): 3338.