中国激光, 2018, 45 (11): 1103001, 网络出版: 2018-11-15   

基于腔内倍频的457 nm激光器高反射腔镜的研制 下载: 929次

Fabrication of High-Reflective Cavity Mirrors for 457 nm Laser Based on Intracavity Frequency Doubling
作者单位
长春理工大学光电工程学院, 吉林 长春 130022
图 & 表

图 1. 理论设计光谱反射率曲线

Fig. 1. Reflectivity curve from theoretically designed spectrum

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图 2. 后表面设计光谱透射率曲线

Fig. 2. Transmissivity curve from back surface designed spectrum

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图 3. 反射率理论设计曲线与测试曲线对比

Fig. 3. Comparison between theoretically designed curve and test one of reflectivity

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图 4. 各层残余蒸镀量

Fig. 4. Residual evaporation amount at each layer

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图 5. H4残余蒸镀量与膜层厚度间的关系

Fig. 5. Residual evaporation amount of H4 versus film thickness

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图 6. SiO2残余蒸镀量与膜层厚度间的关系

Fig. 6. Residual evaporation amount of SiO2 versus film thickness

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图 7. 改进工艺后理论设计曲线与测试曲线对比

Fig. 7. Comparison between theoretically designed curve and test one after technique improvement

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图 8. 双面光谱理论设计曲线与测试曲线对比

Fig. 8. Comparison between theoretically designed curve and test one for both-side spectrum

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图 9. 激光损伤概率

Fig. 9. Laser damage probability

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表 1激光腔面高反射膜具体参数

Table1. Specifications of high-reflective film on laser cavity surface

Wavelength /nmReflectivity /%
457≥99
808≤4
914≥99
1064≤4
1342≤8

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表 2H4、SiO2蒸镀工艺参数

Table2. Evaporation process parameters of H4 and SiO2

MaterialSubstratetemperature /Degree ofvacuum /PaEvaporationrate /(nm·s-1)Flow rateof O2 /(mL·min-1)
H42901.0×10-20.318
SiO22901.0×10-20.722

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刘冬梅, 李五一, 付秀华, 张静, 张功. 基于腔内倍频的457 nm激光器高反射腔镜的研制[J]. 中国激光, 2018, 45(11): 1103001. Liu Dongmei, Li Wuyi, Fu Xiuhua, Zhang Jing, Zhang Gong. Fabrication of High-Reflective Cavity Mirrors for 457 nm Laser Based on Intracavity Frequency Doubling[J]. Chinese Journal of Lasers, 2018, 45(11): 1103001.

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