激光与光电子学进展, 2013, 50 (3): 030004, 网络出版: 2013-02-01
点衍射干涉仪小孔掩模技术研究进展
Research Progress of Pinhole Mask Technology of Point Diffraction Interferometer
基本信息
DOI: | 10.3788/lop50.030004 |
中图分类号: | O436 |
栏目: | 综述 |
项目基金: | 国家科技重大专项(2009ZX02202)资助课题。 |
收稿日期: | 2012-10-15 |
修改稿日期: | 2012-12-28 |
网络出版日期: | 2013-02-01 |
通讯作者: | 于长淞 (changsongyu@yahoo.cn) |
备注: | -- |
于长淞, 向阳. 点衍射干涉仪小孔掩模技术研究进展[J]. 激光与光电子学进展, 2013, 50(3): 030004. Yu Changsong, Xiang Yang. Research Progress of Pinhole Mask Technology of Point Diffraction Interferometer[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2013, 50(3): 030004.