激光与光电子学进展, 2007, 44 (2): 18, 网络出版: 2007-02-26
无掩模表面等离子激元干涉光刻
摘要
采用表面等离子激元近场增强技术可改善纳米干涉光刻成像质量, 有效实现微纳米结构快速、高效、低成本制作, 在传统微细加工技术较难发挥作用的一些纳米光子器件加工领域有很好应用前景。
Abstract
参考文献
[1] Hessel A et al.. Appl. Opt., 1965, 4(10):1275～1297
[2] Luo Xiangang et al.. Appl. Phys. Lett., 2004, 84(23):4780～4782
[3] Guo Xiaowei et al.. Opt. Lett., 2006, 31(17):2613～2615
杜惊雷, 郭小伟, 郭永康, 罗先刚, 杜春雷. 无掩模表面等离子激元干涉光刻[J]. 激光与光电子学进展, 2007, 44(2): 18. 杜惊雷, 郭小伟, 郭永康, 罗先刚, 杜春雷. [J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2007, 44(2): 18.
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