深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法研究

刘世元; 吴小健

光学学报, 2006, 26 (6): 878, 网络出版: 2006-06-13

深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法研究

Real-Time Exposure Dose Control Algorithm for DUV Excimer Lasers

刘世元 ^1,2,*吴小健 ^1,2

作者单位

¹ 华中科技大学机械科学与工程学院, 武汉 430074

² 武汉光电国家实验室光电材料与微纳制造研究部, 武汉 430074

基本信息

DOI:	--
中图分类号:	TN305.7
栏目:	光学设计与制造
项目基金:	国家自然科学基金(50205009, 50575078)资助课题。
收稿日期:	2005-06-07
修改稿日期:	2005-11-03
网络出版日期:	2006-06-13
通讯作者:	刘世元 (shyliu@mail.hust.edu.cn)
备注:	--

刘世元, 吴小健. 深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法研究[J]. 光学学报, 2006, 26(6): 878. 刘世元, 吴小健. Real-Time Exposure Dose Control Algorithm for DUV Excimer Lasers[J]. Acta Optica Sinica, 2006, 26(6): 878.