光学学报, 2006, 26 (6): 878, 网络出版: 2006-06-13
深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法研究
Real-Time Exposure Dose Control Algorithm for DUV Excimer Lasers
应用光学 深紫外准分子激光 剂量控制 扫描曝光 光刻机 能量超调 脉冲能量随机波动 applied optics DUV excimer laser dose control scan exposure lithography energy overshot pulse energy stochastic fluctuation
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刘世元, 吴小健. 深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法研究[J]. 光学学报, 2006, 26(6): 878. 刘世元, 吴小健. Real-Time Exposure Dose Control Algorithm for DUV Excimer Lasers[J]. Acta Optica Sinica, 2006, 26(6): 878.