光学学报, 2014, 34 (10): 1031001, 网络出版: 2014-09-09
钽掺杂氧化钨薄膜电致变色性能
Electrochromic Properties of Ta Doped Tungsten Oxide Thin Films
基本信息
DOI: | 10.3788/aos201434.1031001 |
中图分类号: | O484 |
栏目: | 薄膜 |
项目基金: | 江西省教育厅青年科学基金(GJJ13009)、浙江省自然科学基金(Y12E20040) |
收稿日期: | 2014-06-03 |
修改稿日期: | 2014-06-20 |
网络出版日期: | 2014-09-09 |
通讯作者: | 孙喜莲 (xiliansun@163.com) |
备注: | -- |
孙喜莲, 方燕群, 曹洪涛. 钽掺杂氧化钨薄膜电致变色性能[J]. 光学学报, 2014, 34(10): 1031001. Sun Xilian, Fang Yanqun, Cao Hongtao. Electrochromic Properties of Ta Doped Tungsten Oxide Thin Films[J]. Acta Optica Sinica, 2014, 34(10): 1031001.