强激光与粒子束, 2007, 19 (8): 1317, 网络出版: 2008-02-18
X射线反射法测量α:CH薄膜的密度和厚度
X-ray reflectivity characterization of thickness and mass density of α:CH films
摘要
利用低压等离子体化学气相沉积法制备厚度不同的非晶碳氢薄膜,采用X射线反射法测量了非晶碳氢薄膜的密度和厚度.实验中分别采用曲线拟合法和周期估算法计算薄膜的厚度,两种方法测得的厚度平均差别为5.5%,一致性较好.利用X射线反射谱的临界角计算所得的7个样品的密度差别较小,在8%之内.
Abstract
张继成, 唐永建, 吴卫东. X射线反射法测量α:CH薄膜的密度和厚度[J]. 强激光与粒子束, 2007, 19(8): 1317. 张继成, 唐永建, 吴卫东. X-ray reflectivity characterization of thickness and mass density of α:CH films[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2007, 19(8): 1317.
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