1 四川大学物理系,辐射物理及技术教育部重点实验室,四川 成都 610064
2 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川 绵阳 621900
3 中国科学院国际材料物理中心,辽宁 沈阳 110015
在室温条件下,以溴乙烷为单体、氢气为载气,用13.56 MHz射频等离子体化学气相淀积方法(RF-PECVD)在硅片衬底上生长了掺溴非晶碳氢薄膜(a-C∶Br∶H)。通过对其进行Raman光谱分析,研究了工作气压对薄膜结构的影响。结果显示:随着气体工作压力从20Pa下降至5Pa,样品D峰强度增强,ID/IGG值逐步由1.18增加至1.36,G峰的位置向高频轻微移动;与此同时,薄膜生长方式逐步转为低能态形式生长,薄膜中sp2C逐步由链式结构向环式结构转化。
拉曼光谱 射频等离子体化学气相淀积方法 掺溴非晶碳氢薄膜 Raman spectroscopy RF-PECVD a-C∶Br∶H sp2 sp2 光谱学与光谱分析
2009, 29(12): 3309
中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900
利用低压等离子体化学气相沉积法制备厚度不同的非晶碳氢薄膜,采用X射线反射法测量了非晶碳氢薄膜的密度和厚度.实验中分别采用曲线拟合法和周期估算法计算薄膜的厚度,两种方法测得的厚度平均差别为5.5%,一致性较好.利用X射线反射谱的临界角计算所得的7个样品的密度差别较小,在8%之内.
X射线反射法 非晶碳氢薄膜 密度 厚度
