光子学报, 2005, 34 (3): 477, 网络出版: 2006-06-12
离子辅助沉积中离子束流密度的作用
The Effect of ion Current Density in ion Beam Assisted Deposition
基本信息
DOI: | -- |
中图分类号: | TB43 |
栏目: | 薄膜 |
项目基金: | 863资助项目(编号863-804-2) |
收稿日期: | 2004-01-07 |
修改稿日期: | -- |
网络出版日期: | 2006-06-12 |
通讯作者: | |
备注: | -- |
张大伟, 洪瑞金, 范树海, 王英剑, 邵建达, 范正修. 离子辅助沉积中离子束流密度的作用[J]. 光子学报, 2005, 34(3): 477. 张大伟, 洪瑞金, 范树海, 王英剑, 邵建达, 范正修. The Effect of ion Current Density in ion Beam Assisted Deposition[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2005, 34(3): 477.