离子辅助沉积中离子束流密度的作用

张大伟; 洪瑞金; 范树海; 王英剑; 邵建达; 范正修

光子学报, 2005, 34 (3): 477, 网络出版: 2006-06-12

离子辅助沉积中离子束流密度的作用

The Effect of ion Current Density in ion Beam Assisted Deposition

张大伟洪瑞金范树海王英剑邵建达范正修

作者单位

中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800

图 & 表

张大伟, 洪瑞金, 范树海, 王英剑, 邵建达, 范正修. 离子辅助沉积中离子束流密度的作用[J]. 光子学报, 2005, 34(3): 477. 张大伟, 洪瑞金, 范树海, 王英剑, 邵建达, 范正修. The Effect of ion Current Density in ion Beam Assisted Deposition[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2005, 34(3): 477.