光学元件兆声辅助化学刻蚀工艺参数优化

王洪祥; 李成福; 周岩; 袁志刚; 徐曦; 钟波

doi:doi:10.11884/hplpb201527.112010

强激光与粒子束, 2015, 27 (11): 112010, 网络出版: 2015-11-30

光学元件兆声辅助化学刻蚀工艺参数优化

Process parameters optimization for fused silica optics by megasonic assisted chemical etching

王洪祥 ^1,*李成福 ¹周岩 ¹袁志刚 ²徐曦 ²钟波 ²

作者单位

¹ 哈尔滨工业大学机电工程学院, 哈尔滨 150001

² 中国工程物理研究院激光聚变研究中心, 四川绵阳 621900

补充材料

王洪祥, 李成福, 周岩, 袁志刚, 徐曦, 钟波. 光学元件兆声辅助化学刻蚀工艺参数优化[J]. 强激光与粒子束, 2015, 27(11): 112010. Wang Hongxiang, Li Chengfu, Zhou Yan, Yuan Zhigang, Xu Xi, Zhong Bo. Process parameters optimization for fused silica optics by megasonic assisted chemical etching[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2015, 27(11): 112010.