新型光刻技术研究进展

何立文; 罗乐; 孟钢; 邵景珍; 方晓东

doi:doi:10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2019.01.007

激光技术, 2019, 43 (1): 30, 网络出版: 2019-01-22

新型光刻技术研究进展

Recent progress of novel photolithography technologies

何立文 ¹罗乐 ¹孟钢 ²邵景珍 ²方晓东 ²

作者单位

¹ 合肥工业大学电子科学与应用物理学院, 合肥 230009

² 中国科学院安徽光学精密机械研究所, 合肥 230031

基本信息

DOI:	10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2019.01.007
中图分类号:	TN305.7
栏目:	综述与评述
项目基金:	--
收稿日期:	2018-01-18
修改稿日期:	2018-03-06
网络出版日期:	2019-01-22
通讯作者:
备注:	--

何立文, 罗乐, 孟钢, 邵景珍, 方晓东. 新型光刻技术研究进展[J]. 激光技术, 2019, 43(1): 30. HE Liwen, LUO Le, MENG Gang, SHAO Jingzhen, FANG Xiaodong. Recent progress of novel photolithography technologies[J]. Laser Technology, 2019, 43(1): 30.