液晶与显示, 2017, 32 (3): 169, 网络出版: 2017-03-29   

超高色域图案化量子点彩膜的研究

Ultro-high color gamut and patterned color filter based on quantum dot photoresist
作者单位
京东方科技集团股份有限公司 显示器件事业群, 北京 100176
基本信息
DOI: 10.3788/yjyxs20173203.0169
中图分类号: TP394.1
栏目: 材料与器件
项目基金: --
收稿日期: 2016-07-21
修改稿日期: 2016-08-22
网络出版日期: 2017-03-29
通讯作者: 齐永莲 (qiyonglian@boe.com.cn)
备注: --

齐永莲, 王丹, 邱云, 张斌, 周婷婷, 谢蒂旎, 薛建设, 赵合彬, 曲连杰, 石广东. 超高色域图案化量子点彩膜的研究[J]. 液晶与显示, 2017, 32(3): 169. QI Yong-lian, WANG Dan, QIU Yun, ZHANG Bin, ZHOU Ting-ting, XIE Di-ni, XUE Jian-she, ZHAO He-bin, QU Lian-jie, SHI Guang-dong. Ultro-high color gamut and patterned color filter based on quantum dot photoresist[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2017, 32(3): 169.

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