红外与激光工程, 2006, 35 (6): 759, 网络出版: 2007-05-23   

碲锌镉晶体常用腐蚀剂的坑形特性研究

Morphology characteristics of etch pits on CdZnTe crystals developed by usual etchants
作者单位
中国科学院上海技术物理研究所,功能材料与器件研究中心,上海,200083
摘要
大面积、高质量碲锌镉单晶是制备碲镉汞红外焦平面器件的理想衬底材料,而腐蚀法是常用的揭示碲锌镉晶体缺陷和评价晶体质量的方法之一.对碲锌镉晶体常用的Nakagawa、Everson、EAg1和EAg2四种腐蚀剂在碲锌镉材料(111)晶面上的腐蚀坑坑形进行了研究,结果发现,EAg2腐蚀剂在(111)B面上的腐蚀坑为平底坑,Everson腐蚀剂在(111)B面上产生的腐蚀坑包括平底坑和带有不同倾斜方向坑底的三角锥形坑,进一步的研究还表明,三角锥形坑并未沿着坑底的倾斜方向向下延伸.实验中也首次观察到了EAg腐蚀剂的黑白平底坑.对常用腐蚀剂的坑形特性研究,将有助于更好地利用腐蚀剂开展碲锌镉材料缺陷研究和晶体质量评价工作.
Abstract
参考文献

刘从峰, 方维政, 涂步华, 孙士文, 杨建荣, 何力. 碲锌镉晶体常用腐蚀剂的坑形特性研究[J]. 红外与激光工程, 2006, 35(6): 759. 刘从峰, 方维政, 涂步华, 孙士文, 杨建荣, 何力. Morphology characteristics of etch pits on CdZnTe crystals developed by usual etchants[J]. Infrared and Laser Engineering, 2006, 35(6): 759.

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