离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法 | 应用光学 -- 中国光学期刊网

应用光学, 2011, 32 (5): 888, 网络出版: 2011-11-18

离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法

Dwell time algorithm of synthesis for ion beam polishing

郭伟远 ^1,2,*成贤锴 ^1,3梁斌 ^1,2

作者单位

¹ 中国科学院国家天文台南京天文光学技术研究所, 江苏南京 210042

² 中国科学院天文光学技术重点实验室, 江苏南京 210042

³ 中国科学院研究生院, 北京 100039

引用该论文

郭伟远, 成贤锴, 梁斌. 离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法[J]. 应用光学, 2011, 32(5): 888.

GUO Wei-yuan, CHENG Xian-kai, LIANG Bin. Dwell time algorithm of synthesis for ion beam polishing[J]. Journal of Applied Optics, 2011, 32(5): 888.

引用列表

1、光学面形的轮带光学抛光方法研究应用光学, 2014, 35 (1): 116

2、离子束抛光轨迹段划分及进给速度求解强激光与粒子束, 2013, 25 (12): 3292

3、极坐标系统下进行直角坐标扫描的离子束抛光应用光学, 2012, 33 (1): 164

郭伟远, 成贤锴, 梁斌. 离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法[J]. 应用光学, 2011, 32(5): 888. GUO Wei-yuan, CHENG Xian-kai, LIANG Bin. Dwell time algorithm of synthesis for ion beam polishing[J]. Journal of Applied Optics, 2011, 32(5): 888.

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