极紫外辐照损伤测试系统光学仿真研究
陈进新, 吴晓斌, 王宇. 极紫外辐照损伤测试系统光学仿真研究[J]. 激光与光电子学进展, 2015, 52(6): 062201.
Chen Jinxin, Wu Xiaobin, Wang Yu. Optical Simulation Research on Damage Testing System of Extreme Ultraviolet Radiation[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2015, 52(6): 062201.
[1] H Meiling, W de Boeij, F Bornebroek, et al.. From performance validation to volume introduction of ASML′s NXE platform[C]. SPIE, 2012, 8322: 83221G.
[2] M Lowisch, P Kuerz, O Conradi, et al.. Optics for ASML′s NXE: 3300B platform[C]. SPIE, 2013, 8679: 86791H.
[3] 曹振, 李艳秋, 刘菲. 16~22 nm 极紫外光刻物镜工程化设计[J]. 光学学报, 2013, 33(9): 0922005.
[4] 王珣, 金春水, 匡尚奇, 等. 极紫外光辐照下表面碳沉积污染的计算模型[J]. 光学学报, 2014, 34(5): 0531001.
[5] 左保军, 祝东远, 张树青, 等. 下一代光刻技术的EUV光源收集系统的发展[J]. 激光与红外, 2010, 40(11): 1163-1167.
Zuo Baojun, Zhu Dongyuan, Zhang Shuqing, et al.. Development of EUV source collectors for next generation lithography[J]. Laser & Infrared, 2010, 40(11): 1163-1167.
[6] 王君, 金春水, 王丽萍, 等. 极紫外光刻投影物镜中多层膜分析模型的建立及应用[J]. 光学学报, 2014, 34(8): 0811002.
[7] 刘晓雷, 李思坤, 王向朝. 极紫外光刻含缺陷多层膜衍射谱仿真简化模型[J]. 光学学报, 2014, 34(9): 0905002.
陈进新, 吴晓斌, 王宇. 极紫外辐照损伤测试系统光学仿真研究[J]. 激光与光电子学进展, 2015, 52(6): 062201. Chen Jinxin, Wu Xiaobin, Wang Yu. Optical Simulation Research on Damage Testing System of Extreme Ultraviolet Radiation[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2015, 52(6): 062201.