用于激光器上的某些氧化物薄膜折射率的研究

金林法; 章宏芬; 杨本祺

中国激光, 1984, 11 (4): 235, 网络出版: 2012-09-04

用于激光器上的某些氧化物薄膜折射率的研究

Research on refractive index of some oxide films used in lasers

金林法章宏芬杨本祺

作者单位

中国科学院上海光机所

摘要

本文报导了TiO2、ZrO2、Ta2O5、SiO2薄膜的折射率在不同蒸发条件下的研究结果。

Abstract

This paper reports the results on a detailed investigation of the refractive index of TiO2, ZrO2, Ta2O5 SiO2 films at different evaporation conditions.

PDF全文

金林法, 章宏芬, 杨本祺. 用于激光器上的某些氧化物薄膜折射率的研究[J]. 中国激光, 1984, 11(4): 235. Jin Linfa, Zhang Hongfen, Yang Benqi. Research on refractive index of some oxide films used in lasers[J]. Chinese Journal of Lasers, 1984, 11(4): 235.