装置是由配有微机的快速扫描分光光度计组成,在镀膜时不断测量膜层的光谱透射率曲线以监控膜厚,并作了监控三层膜的试验。 装置的性能:测量波长宽度333nm;波长点数:50点;透射率精度:±1％;光谱透射率扫描速度:12c/s。
光学薄膜
用λ/4膜系设计了激光标准具中的宽带膜,在波长410～710nm范围内膜系的反射率为95±3％。
本文报导了TiO2、ZrO2、Ta2O5、SiO2薄膜的折射率在不同蒸发条件下的研究结果。
选择了适当的制备工艺,并改善膜系以减弱膜内的电场强度,获得低损耗可见光区的宽带高反射镜。
对二组λ/4膜系迭加的宽带反射镜进行了分析和计算.当膜层的复折射率为 N_H=2.3-5×10~(-4)和N_L=1.46-il×10~(-5)时,反射镜出现二个吸收峰,峰值达7%,文中阐述了产生吸收峰的原因,并提出了一种改善吸收蜂的简单膜系.
利用 SiO2作为激光薄膜的保护膜,可以提高抗激光强度1～3倍,从等离子体闪光和薄膜缺陷破坏两个方面给出了解释。
研究了在单次和周期的激光脉冲辐射作用下，对TiO2和SiO2多层电介质反射镜的破坏。测量了破坏阈值，并发现了对激光辐射波长有较小反射率的反射镜在重复频率条件下破坏阈值减小。表明了，无论是单层TiO2薄膜，还是TiO2和SiO2多层薄膜的破坏阈值都是由TiO2薄膜表面层的强度来决定的。还研究了在TiO2膜层界面上，辐射强度的变化对破坏阈值的影响，这种影响是与激光辐射波长的变动有关。
