中国激光, 1987, 14 (4): 193, 网络出版: 2012-08-10  

在XeCl雪崩放电激光器中预电离电子的衰减过程

Preionization electron decay process in XeCl avalanche discharge lasers
作者单位
1 中国科学院上海光机所
2 美国加州大学圣地亚哥分校
摘要
计算与实验表明,典型混合气体HCl/Xe/Ne的XeCl激光器中,在预电离阶段,电子与HCl的分解粘附反应不是电子损耗的主要过程;电子密度衰减很慢。这可能与电子的三体复合有关。
Abstract
Both calculation and experiment shows that the dissociation attachment of electrons and HOl is not the major chartnel for electron loss in XeOl lasers with typical gas mixture of HOl/Xe/Ne. The slow decay of electron density may be involved with the three-body combination of electrons.
参考文献

[1] J. Hsia, Appl. Phys. Lett., 1977, 30, 101.

[2] I. Dotan et al.; J. Chem. Phys., 1977, 66, 2232.

[3] C. B. Zheng; Acta Optica Sinica, 1983, 3, 5250

[4] J. I. Levatto, S. C. Lin; J. Appl. Phys., 1980, 51, 210

[5] Y. J. Shiu, Μ A Biondi, Phys. Rev., 1977, Α 16, 1817

[6] L. Frommhold et al.; Phys. Rev., 1968, 165, 44

[7] C. J. Elliot, A. E. Greene; J. Appl. Phys., 1979, 47, 2946

[8] J. M. Meek, J. D. Craggs; Electrical Breakdown of Gases, Oxford at the Clarendon Press, 1953, Chapter 10, p. 4150

[9] A. M. Cravath;Phys. Rev., 1930, 36, 284

[10] Ε. M. McDaniel; Collision Phenomena in Ionized Gases, John Wiley & Sons, Inc., New York, 1964, p. 22

[11] C. R. Hoffmann, Η. M. Skarsgard; Phys. Rev., 1969, 178, 1680

[12] S. C. Brown; “Basic Data of Plasma Physics”, John Wiley & Sons, Inc., New York, 1959, p.31

[13] S. B. Zhu, Ph. D. Dissertation, University of California, San Diego, 19840

[14] C. E. Zheng et al.; Presented at the 7th International Conference on Lasers and Applications, San Francisco, California, U. S. Α., November, 1984, p. 26

[15] J. I. Levatter, Z. G. Li; Rev. Sci. Instrum., 1981, 52, 1651

[16] Η. Shields et al.; Appl. Phys., 1983, B31, 27

[17] D. R. Bates; The Physics of Ionized Gases, (R. K. Janev, ed.), Institute of Physics, Belgrade Yugoslavia, 1978, p. 75,

[18] S. C. Lin et al.; Appl. Phys., 1986, Β 40,15~23

郑承恩, 罗荫权. 在XeCl雪崩放电激光器中预电离电子的衰减过程[J]. 中国激光, 1987, 14(4): 193. Zheng Chengen, Dennis Lo. Preionization electron decay process in XeCl avalanche discharge lasers[J]. Chinese Journal of Lasers, 1987, 14(4): 193.

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