极紫外光刻动态气体锁抑制率的理论研究

陈进新; 王宇; 谢婉露

doi:doi:10.3788/lop53.053401

激光与光电子学进展, 2016, 53 (5): 053401, 网络出版: 2016-05-05

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Theoretical Investigation on Suppression Ratio of Dynamic Gas Lock for Extreme Ultraviolet Lithography

陈进新 ^*王宇谢婉露

作者单位

中国科学院光电研究院, 北京 100094

基本信息

DOI:	10.3788/lop53.053401
中图分类号:	TN23;O439
栏目:	X射线光学
项目基金:	国家科技重大专项（2012ZX02702007）
收稿日期:	2015-01-06
修改稿日期:	2016-01-07
网络出版日期:	2016-05-05
通讯作者:	陈进新 (ashion@aoe.ac.cn)
备注:	--

陈进新, 王宇, 谢婉露. 极紫外光刻动态气体锁抑制率的理论研究[J]. 激光与光电子学进展, 2016, 53(5): 053401. Chen Jinxin, Wang Yu, Xie Wanlu. Theoretical Investigation on Suppression Ratio of Dynamic Gas Lock for Extreme Ultraviolet Lithography[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2016, 53(5): 053401.