中国激光, 2008, 35 (12): 2026, 网络出版: 2008-12-17
355 nm增透膜的设计、制备与性能
Design, Preparation and Characterization of 355 nm Antireflection Coatings
基本信息
| DOI: | -- |
| 中图分类号: | O 484.1 |
| 栏目: | 材料与薄膜 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金(60678004)资助项目。 |
| 收稿日期: | 2008-01-08 |
| 修改稿日期: | 2008-04-21 |
| 网络出版日期: | 2008-12-17 |
| 通讯作者: | 余华 (yuhua5101@163.com) |
| 备注: | -- |
余华, 崔云, 申雁鸣, 齐红基, 易葵, 邵建达, 范正修. 355 nm增透膜的设计、制备与性能[J]. 中国激光, 2008, 35(12): 2026. Yu Hua, Cui Yun, Shen Yanming, Qi Hongji, Yi Kui, Shao Jianda, Fan Zhengxiu. Design, Preparation and Characterization of 355 nm Antireflection Coatings[J]. Chinese Journal of Lasers, 2008, 35(12): 2026.
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