激光与光电子学进展, 1972, 9 (1): 34, 网络出版: 2013-08-28
硅酸氧灰石：钕的新高贮能激光基质
摘要
具有空间群为P63/m的磷灰石结构的材料，被广泛用作荧光离子的基质。这类材料之一的氟磷灰石Ca5(PO4)3F(FAP)，是已知的掺Nd3+的晶体激光材料中长脉冲效率最高和阈值最低者，这些性质是由于Nd3+在这种结构中有宽的吸收光谱和一种格位对称性。掺钕氟磷灰石（FAP:Nd3+)激光器的高增益，对于长脉冲和连续运转是有利的，但是，在用于Q开关运转时，却受到很大的限制。因此，我们要寻找另外的一些氧灰石基质，在这些基质中，可以改变荧光离子(例如，Nd3+)的局域离子环境，以提高贮能容量，但仍保持氟磷灰石的高效率特性。
Abstract
参考文献
N/A. 硅酸氧灰石：钕的新高贮能激光基质[J]. 激光与光电子学进展, 1972, 9(1): 34. N/A. [J]. Laser & Optoelectronics Progress, 1972, 9(1): 34.
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