光电工程, 2004, 31 (12): 12, 网络出版: 2007-11-14
电子束曝光机的偏转系统
Deflection system for electron beam lithography
基本信息
DOI: | -- |
中图分类号: | TN305 |
栏目: | 微纳技术 |
项目基金: | 中科院知识创新工程重大项目支持(KGCX1-Y-8) |
收稿日期: | 2004-04-08 |
修改稿日期: | 2004-08-30 |
网络出版日期: | 2007-11-14 |
通讯作者: | |
备注: | -- |
刘珠明, 顾文琪. 电子束曝光机的偏转系统[J]. 光电工程, 2004, 31(12): 12. 刘珠明, 顾文琪. Deflection system for electron beam lithography[J]. Opto-Electronic Engineering, 2004, 31(12): 12.