光电工程, 2004, 31 (12): 12, 网络出版: 2007-11-14
电子束曝光机的偏转系统
Deflection system for electron beam lithography
图 & 表
刘珠明, 顾文琪. 电子束曝光机的偏转系统[J]. 光电工程, 2004, 31(12): 12. 刘珠明, 顾文琪. Deflection system for electron beam lithography[J]. Opto-Electronic Engineering, 2004, 31(12): 12.