激光与光电子学进展, 1986, 23 (9): 45, 网络出版: 2013-07-26
以准分子激光清除氧化物
摘要
以色列理工学院物理系所做的实验表明，氟化氪准分子激光能有效地清除微型电路上氧化硅层。氧化物层能够通过湿处理来清除，不过是用二氧化碳激光器进行的，遗憾的是使用二氧化碳激光器清除后余渣会留在晶片上，且切割深度不能控制。
Abstract
参考文献
王文耀. 以准分子激光清除氧化物[J]. 激光与光电子学进展, 1986, 23(9): 45. 王文耀. [J]. Laser & Optoelectronics Progress, 1986, 23(9): 45.
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