激光与光电子学进展, 2017, 54 (12): 120501, 网络出版: 2018-01-02   

激光干涉光刻制备976 nm分布反馈式激光器光栅 下载: 754次

Fabrication of Gratings Used in 976 nm Distributed Feedback Lasers Based on Laser Interference Lithography
作者单位
1 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室, 吉林 长春 130022
2 长春理工大学高功率半导体激光器家重点实验室, 吉林 长春 130022
基本信息
DOI: 10.3788/lop54.120501
中图分类号: TN248.4
栏目: 衍射与光栅
项目基金: 长春理工大学青年科学基金(XQNJJ-2015-10)、长春理工大学科技创新基金(XJJLG-2016-07)、 吉林省科技计划重点项目(20150204068GX)
收稿日期: 2017-07-18
修改稿日期: 2017-08-30
网络出版日期: 2018-01-02
通讯作者: 白云峰 (bai_yun_feng@126.com)
备注: --

白云峰, 范杰, 邹永刚, 王海珠, 海一娜, 田锟. 激光干涉光刻制备976 nm分布反馈式激光器光栅[J]. 激光与光电子学进展, 2017, 54(12): 120501. Bai Yunfeng, Fan Jie, Zou Yonggang, Wang Haizhu, Hai Yina, Tian Kun. Fabrication of Gratings Used in 976 nm Distributed Feedback Lasers Based on Laser Interference Lithography[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2017, 54(12): 120501.

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