激光与光电子学进展, 2017, 54 (12): 120501, 网络出版: 2018-01-02
激光干涉光刻制备976 nm分布反馈式激光器光栅 下载: 754次
Fabrication of Gratings Used in 976 nm Distributed Feedback Lasers Based on Laser Interference Lithography
基本信息
DOI: | 10.3788/lop54.120501 |
中图分类号: | TN248.4 |
栏目: | 衍射与光栅 |
项目基金: | 长春理工大学青年科学基金(XQNJJ-2015-10)、长春理工大学科技创新基金(XJJLG-2016-07)、 吉林省科技计划重点项目(20150204068GX) |
收稿日期: | 2017-07-18 |
修改稿日期: | 2017-08-30 |
网络出版日期: | 2018-01-02 |
通讯作者: | 白云峰 (bai_yun_feng@126.com) |
备注: | -- |
白云峰, 范杰, 邹永刚, 王海珠, 海一娜, 田锟. 激光干涉光刻制备976 nm分布反馈式激光器光栅[J]. 激光与光电子学进展, 2017, 54(12): 120501. Bai Yunfeng, Fan Jie, Zou Yonggang, Wang Haizhu, Hai Yina, Tian Kun. Fabrication of Gratings Used in 976 nm Distributed Feedback Lasers Based on Laser Interference Lithography[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2017, 54(12): 120501.