氩、氢混合等离子体处理对GaAs表面性质及发光特性的影响

王云华; 周路; 乔忠良; 高欣; 薄报学

doi:doi:10.3788/fgxb20133403.0308

发光学报, 2013, 34 (3): 308, 网络出版: 2013-04-07

氩、氢混合等离子体处理对GaAs表面性质及发光特性的影响

Effects of Ar and H2 Plasma Treatment on The Surface Character and Luminescence Properties of GaAs Substrates

王云华 ^*周路乔忠良高欣薄报学

作者单位

长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室, 吉林长春130022

补充材料

王云华, 周路, 乔忠良, 高欣, 薄报学. 氩、氢混合等离子体处理对GaAs表面性质及发光特性的影响[J]. 发光学报, 2013, 34(3): 308. WANG Yun-hua, ZHOU Lu, QIAO Zhong-liang, GAO Xin, BO Bao-xue. Effects of Ar and H2 Plasma Treatment on The Surface Character and Luminescence Properties of GaAs Substrates[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2013, 34(3): 308.