1 大连海事大学轮机工程学院, 辽宁 大连 116026
2 广东海洋大学海洋工程学院, 广东 湛江 524088
氧化铟锡(ITO)导电膜具有电阻率低、透光性好、耐高温等优点,在光电领域具有重要应用。现有加工方法得到的ITO电极尺寸一般为10~200 μm,这限制了ITO电极在微纳领域的应用,为解决此限制,在传统湿法刻蚀方法的基础上,利用无掩模光刻技术对ITO玻璃表面光刻胶进行高精度曝光,再通过优化曝光、显影及刻蚀等过程,最终加工出尺寸仅为2 μm的电极。所提方法所加工的电极具有线性度高、无钻蚀、误差小等优点,为ITO电极在微纳领域应用开发提供了有现实意义的参考。
光学设计 ITO电极 湿法刻蚀 无掩模光刻 高精度 激光与光电子学进展
2020, 57(3): 032202
