用溶胶-凝胶法制得Zn、Cu共掺杂的TiO2∶SiO2凝胶，旋转法于玻璃基底涂膜，制得Zn、Cu共掺杂的TiO2∶SiO2薄膜，探讨了煅烧温度、煅烧时间及掺杂比例对其结构、形貌和性能的影响。采用XRD、FESEM、FTIR等测试技术对薄膜进行表征，并考察了其对甲基橙的光催化降解性能。XRD测试结果显示: 薄膜样品的晶型为锐钛矿型，结晶良好。SEM谱图显示: 薄膜微粒粒径小，分布均匀，表面平整、致密且无明显裂痕；紫外-可见光谱(UV-Vis)表明: Zn、Cu共掺杂的TiO2∶SiO2薄膜在紫外区和可见光区的吸光度明显增加，提高了对光的利用率；光催化性能测试表明: 与纯相TiO2对比，Zn、Cu共掺杂的TiO2 ∶SiO2薄膜对甲基橙的光催化降解率有较大提高，在600 ℃下焙烧2 h的掺杂的量比为n(Ti)∶n(Si)∶n(Zn)∶n(Cu)= 3 ∶2 ∶1.5 ∶4的薄膜样品光催化降解率最高。

用溶胶-凝胶法制得Zn,Cu共掺杂的TiO2∶SnO2凝胶, 旋转法于玻璃基底镀膜, 制备出Zn,Cu共掺杂的TiO2∶SnO2薄膜, 探讨了掺杂比例、煅烧温度对其结构、形貌和性能的影响。采用XRD、FTIR、FESEM、PL等测试技术对薄膜进行表征, 并考察了其对甲基橙的光催化降解性能。结果表明: 600 ℃时, 薄膜粒子的结晶度较高, 粒径小, 分布均匀, 表面平整且无明显裂痕; 紫外-可见光谱(UV-Vis)表明: 该薄膜在可见光区和紫外区都有很强的吸收; 光催化性能测试表明: 与纯相TiO2对比, 该样品对甲基橙的光催化降解率有较大提高, 在最佳掺杂量比为n(Ti)∶n(Sn)∶n(Zn)∶n(Cu)=10∶3∶1∶1时, 光催化降解率最高。

制备Cu掺杂的纳米SnO2/TiO2溶胶, 采用旋涂法在载玻片上镀膜, 经干燥、煅烧制得Cu掺杂的SnO2/TiO2薄膜, 通过对比实验探讨掺杂比例、条件、复合形式等对结构和性能的影响。采用XRD、SEM、EDS、UV-Vis等测试手段对样品进行表征, 并以甲基橙为探针考察了其光催化降解性能。XRD测试结果显示薄膜的晶型为锐钛矿型, 结晶度较高。SEM谱图显示薄膜表面无明显开裂, 粒子分布均匀, 粒径约为20 nm。EDS测试结果表明薄膜材料中含有Cu元素, 谱形一致。UV-Vis吸收光谱表明Cu掺杂以及SnO2/TiO2的复合使得在近紫外区的光吸收比纯TiO2明显增强。光催化实验表明Cu掺杂后使得SnO2/TiO2复合薄膜对甲基橙的光催化降解效率进一步提高, SnO2/TiO2复合薄膜的光催化活性在10%Cu掺杂时达到最高。

采用旋涂法将溶胶-凝胶法制备的Ni/SnO2凝胶在玻璃基底上镀膜,得到了Ni/SnO2复合薄膜,探讨了镍掺杂量、煅烧温度对薄膜结构和形貌的影响。通过X射线衍射、红外光谱、扫描电子显微镜等测试手段对Ni/SnO2复合膜的结构和形貌进行表征。结果显示,500 ℃ 下煅烧的薄膜样品的结晶度较高,粒径小,颗粒分布均匀。用紫外-可见分光光度计和四探针电阻仪对其进行光学、电学性能测试,结果显示: 适量的Ni掺杂可以提高SnO2薄膜在近紫外光区的吸收,Ni/SnO2薄膜在近紫外光区的吸收随着Ni2+掺杂摩尔分数从5%增加到10%而逐渐减小。当Ni2+掺杂摩尔分数为6%时,Ni/SnO2复合薄膜的导电性能最好。