在对随机弱散射屏进行表面参数的原子力显微镜测量和建立了门积分取样平均的随机光强自相关函数测量系统的基础上，对弱散射屏在严格像面和离焦像面上产生的散斑自相关函数进行了测量。发现在严格像面上，散斑平均颗粒的大小随表面粗糙度增加而减小，且光强自相关函数次极大的相关间隔宽度随粗糙度增加而减小；而次极大的起伏随粗糙度的增大而增大；在离焦像面上，离焦量的增加使光强的自相关函数下降变得平滑，并使极小值点和次极大点变得不明显或者消失。
弱散射屏 像面散斑 自相关函数
提出了动态白光数字散斑计量术,并研制了相应的实验测量系统。在系统启动脉冲的触发下,动态白光数字散斑计量系统中物体动态加载、脉冲白光光源照明、数字散斑图像采集等过程依次完成。该系统可通过延时调节,对可重复动态过程的位移演化进行全过程测量。
白光数字散斑 动态变形 频率域数字相关
提出了表面粗糙度变波矢光散射测量方法, 通过散射光强中心亮点光能量的对数ln Eδ随k2⊥变化的线性关系来确定粗糙度w, 对6块粗糙度不同的硅片背面样品进行了实验测量。
光散射 变波矢 粗糙度
