1 华中理工大学激光技术国家重点实验室,湖北,武汉,430074
2 中国航天总公司二院25所,北京,100854
提出了一种新的曲率倒易法首次成功地在Si衬底上制作出64×256凹柱面折射微透镜阵列,扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面轮廓清晰的凹柱面阵列,表面探针测试结果显示凹微透镜阵列表面光滑、单元重复性好,其平均凹深为2.643μm,凹深非均匀性为8.45%,平均焦距为-47.08μm.
凹微透镜阵列 氩离子束刻蚀. Si Si concave microlenses array Ar ion beam etching.
1 华中科技大学激光技术国家重点实验室,湖北武汉430074
2 中国航天总公司二院25所,北京100854
提出了一种新的曲率补偿法用于长焦距微透镜阵列的制作.扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的方底拱形阵列,表面探针测试结果显示用曲率补偿法制作的微透镜的焦距可达到3861.70μm,而常规光刻热熔法很难制作出焦距超过200μm的相同尺寸的微透镜阵列.微透镜阵列器件与红外焦平面阵列器件在红外显微镜下对准胶合,显著改善了红外焦平面阵列器件的响应特性.
微透镜阵列 离子束刻蚀 组合器件 红外焦平面阵列器件. GaAs GaAs microlenses array ion beam milling hybrid device IRFPA device.
1 华中科技大学激光技术国家重点实验室, 武汉 430074
2 航天机电集团二院二部, 北京 100854
提出了一种补偿刻蚀法：在经过常规光刻热熔成形和离子束刻蚀技术制成的硅微透镜阵列上再涂敷几层光刻胶,以降低各单元微透镜的曲率,然后再次进行加热固化和离子束刻蚀。扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的球冠形阵列,表面探针测试结果显示用补偿刻蚀法制作的微透镜的F数和F′数分别可达到31.62和35.8<参考文献原文>而常规光刻热熔法很难制作出F数和F′数分别超过1.00和4.00的微透镜阵列。光学填充因子也由常规方法的64.3%提高至78.5%,并且微透镜的点扩散函数也更接近理想值。
微透镜阵列 离子束刻蚀 光刻胶 点扩散函数
1 华中理工大学光电子工程系,武汉 430074
2 航天部二院25所,北京 100584
阐述了利用离子束刻蚀技术制作线列长方状拱面石英微透镜阵列的工艺方法,对所制微光学元件的光学性能进行了测试和讨论,所制成的石英微透镜阵列器件在线列YBa2Cu3O7-δ高Tc超导薄膜红外探测器上得到了应用。实验结果表明,混合型的石英微透镜/红外探测器结构显著改善了线列YBCO高温超导薄膜红外探测器的光响应特性。
离子束刻蚀 微透镜阵列 YBCO超导薄膜 红外探测器
