以激光干涉法得到的光刻胶图案为掩模, 采用湿法刻蚀和溶脱-剥离法制备了具有良好减反射特性的亚微米掺铝氧化锌(ZnO:Al, AZO)光栅。表面形貌特征和反射光谱测试结果表明, 湿法刻蚀较溶脱-剥离法得到的AZO光栅表面更为粗糙, 两者均方根粗糙度分别为25.4, 7.6 nm。在400～900 nm波段, 两种方法制备的周期和高度相同的光栅, 平均总反射率分别由AZO薄膜的12.5%下降到8.3%和10.2%。两者的平均镜面反射率分别为6.2%和6.6%, 平均漫反射率分别为2.1%和3.6%。湿法刻蚀得到的表面较为粗糙AZO光栅的漫反射明显减弱, 从而导致总的减反特性优于溶脱-剥离法得到的表面起伏相对较小的AZO光栅。

探讨亚微米掺铝氧化锌（AZO）光栅的漫透射光谱特性。在AZO薄膜上涂布光刻胶，用325 nm激光双光束干涉曝光得到掩模图案。将其置于质量分数为0.5%的稀盐酸溶液中湿法刻蚀，制备出周期(780~1280 nm)和高度（60~300 nm）能独立调控的AZO一维光栅。正入射双向透射分布函数（BTDF）测试结果表明，400~900 nm波段内平均镜面透射率随光栅周期增大而降低，与紫外可见分光光度计测得的结果吻合；同时，周期越大被衍射到30°~80°范围内的漫透射比重和漫透射峰值均越大，而峰位角越小。根据光栅方程对实验结果给出了合理的解释。

A bandpass filter with twin wideband channels in a single-layer guided-mode resonance grating is presented. Strong refractive-index modulation is used to support the excitation of multimode resonances TE1,0, TE1,1, TE2,0, TE1,2, and TE2,1, which are excited by the first and second diffraction orders, relate asymmetrical line shapes and broad low-transmission bands, where TE is the transverse electric. Taking advantage of narrow linewidth and sharp edge line shape in the spectra of TE2, (v is the mode), a bandpass filter with form factors of 0.61 and 0.7 for long- and short-wave channels is presented to demonstrate this concept.

采用直流磁控溅射法制备自支撑锆(Zr)膜,采用二步法制备聚酰亚胺(PI)膜, 在Zr膜表面沉积PI膜得到自支撑PI/Zr复合膜。均苯四甲酸酐(PMDA)和二甲基二苯醚(ODA)在二甲基乙酰胺(DMAC)中反应得到聚酰胺酸(PAA), 然后PAA高温亚胺化得到PI;PI成膜时采用提拉法成膜。经国家同步辐射实验室计量线站测定, 实际测量结果与理论分析一致, PI膜的引入虽然会导致自支撑薄膜透过率有所下降, 但在类镍-银软X射线13.9 nm波段PI(200 nm)/Zr(300 nm)和PI(200 nm)/Zr(400 nm)自支撑薄膜的透过率仍然分别达到14.9%和7.5%。