采用金属催化化学腐蚀法在p型(100)硅基底上制备了硅纳米阵列，然后用碱溶液对纳米线阵列进行修饰。分别研究了碱液修饰对硅纳米线阵列形貌、光电性质的影响。研究表明: 与绒面及纳米线阵列相比，碱修饰30 s硅纳米线阵列的表面分散均匀，反射率降低;光谱响应度显著提高，并且出现最大量子效率对应波长红移现象。最后，详细讨论了碱液修饰硅纳米线阵列电池对光谱响应的影响机制。

提出用碱溶液修饰硅纳米线阵列制作太阳能绒面的方法。实验中首先采用金属催化化学腐蚀法在Si(100)基底上制备了定向排列的硅纳米线阵列，然后将纳米线阵列浸入碱溶液中进行修饰，修饰时间分别为10，30，50，60，90 s。通过扫描电子显微镜（SEM）对硅纳米线阵列进行形貌分析，采用太阳能测试系统附带的积分球测量纳米线阵列绒面结构的反射光谱。通过测量和分析发现硅纳线阵列在碱溶液中修饰30 s时表面分布均匀，在400~1000 nm波段的综合反射率低于4%。结果表明碱溶液修饰纳米线阵列的方法能够有效分散束状硅纳米线阵列，明显降低绒面的反射率，并且初步分析了碱溶液修饰硅纳米线阵列的分散机理。

在Ar和O2气氛下采用直流反应溅射制备了NiOx薄膜，利用X射线衍射（XRD）和X射线光电子能谱技术（XPS）对薄膜的晶体结构、Ni离子在不同化学态的结合能进行了表征。NiOx薄膜的扫描电子显微镜（SEM）照片表明薄膜有较好的晶体结构，晶粒尺寸为10 nm左右。NiOx薄膜中Ni元素是Ni2+和Ni3+混合价态，薄膜颜色为淡棕色，NiOx表现出阳极电致变色特征，其电致变色的行为是由于Li+和OH-在NiOx薄膜中的注入和拉出引起的Ni2+和Ni3+发生转化所致。通过电致变色动态测试对样品的电致变色性能和相应的响应时间进行了研究，讨论了沉积气压与NiOx薄膜的电致变色性能之间的关系。当沉积气压为3 Pa时，所制备的NiOx薄膜样品具有较好的电致变色性能，其在可见光范围的平均调色范围为47%，着色时间为9 s，漂白时间为1 s，具有较快的响应时间。