张文妮 1,2,3曹红超 1,3孔钒宇 1,3张益彬 1,3[ ... ]邵建达 1,3,4
作者单位
摘要
1 中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室,上海 201800
2 中国科学院大学材料与光电研究中心,北京 100049
3 中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室,上海 201800
4 中国科学院超强激光科学卓越创新中心,上海 201800
针对传统熔石英激光窗口在碱金属蒸气环境下易腐蚀的痛点问题,提出了在蓝宝石材料上制备增透微结构的方法,以实现耐高温、耐腐蚀的高透激光窗口。在理论仿真的基础上,采用干涉曝光与反应离子束刻蚀技术,在蓝宝石基底表面上制备了增透微结构,其对795 nm光的单面透过率达到99.23%。在此基础上,制备了双面增透微结构和一面增透微结构一面增透膜的蓝宝石窗口片,相较于蓝宝石基底,它们对795 nm光的透过率分别提升了12.13%和13.02%。高功率激光作用温升测试结果表明,当激光功率从35 W增加到99.6 W时,裸基板温度增加了5.9 ℃,但是双面增透样品的温升均为3.8 ℃,表明双面增透处理可以适当降低温升。同时,光束质量测试结果表明,当高功率激光作用下微结构窗口的温度控制在200 ℃以内时,双面增透样品的光束质量因子在横向上的变化小于0.05,在纵向上的变化小于0.06,表明该增透窗口对入射光光束质量的影响甚小。
薄膜 增透微结构 干涉曝光 反应离子束刻蚀 
中国激光
2023, 50(22): 2203101
张晗宇 1,2崔云 2,3孙勇 2,3,4张益彬 2,3[ ... ]邵建达 1,2,3
作者单位
摘要
1 上海科技大学物质科学与技术学院, 上海 201210
2 中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室, 上海 201800
3 中国科学院上海光学精密机械研究所中科院强激光材料重点实验室, 上海 201800
4 中国科学院大学材料与光电研究中心, 北京 100049
通过微结构结合镀膜的方法成功设计和制备了中红外宽带减反射元件。首先,利用FDTD Solutions软件,模拟了微结构周期、占空比、高度以及膜层厚度对所需波段透射率的影响规律,得到较好增透效果的微结构和膜层结构参数;根据设计参数,采用激光干涉曝光和反应离子束刻蚀技术在蓝宝石表面制备出相应微结构,然后在其表面镀制相应厚度的SiO2膜。测试结果表明:仅有单面微结构的蓝宝石元件在1.5~4 μm波段的平均透射率达到92.3%,具有复合结构的蓝宝石元件在该波段的平均透射率高达98.7%,相对双面抛光蓝宝石样品透射率提升11.0%左右,实现了蓝宝石表面的宽带增透;对具有复合结构的蓝宝石元件进行了湿度验证和高低温循环实验,实验前后透射率曲线无明显变化,且无明显水吸收,说明该元件具有很好的环境适用性。
光学器件 减反微结构 时域有限差分法 干涉曝光 反应离子束刻蚀 
中国激光
2020, 47(3): 0301006
徐姣 1,2陈俊明 1,2陈鹏 1王勇禄 1[ ... ]邵建达 1
作者单位
摘要
1 中国科学院上海光学精密机械研究所高能激光材料重点实验室, 上海 201800
2 中国科学院大学, 北京 100049
前期通过实验和理论研究了960线合束光栅在不同功率密度激光辐照下的表面热畸变及远场光束质量,认为基底受热膨胀是导致合束光栅面形质量和光束质量下降的主要原因,但没有对合束光栅表面热量沉积和远场光束质量如何改善进行分析。通过模型改进分析了合束光栅在不同辐照功率密度下的表面温度、热畸变以及远场光束质量的变化,而且计算分析了基底厚度对合束光栅表面温度、热畸变以及远场光束质量的影响,并得出结论:增加基底厚度有利于提高合束光栅的功率耐受性以及衍射光斑的远场光束质量。
光栅 合束光栅 热畸变 光束质量 基底厚度 
光学学报
2018, 38(5): 0505002
作者单位
摘要
1 中国科学院上海光学精密机械研究所 强激光材料重点实验室,上海 201800
2 中国科学院大学,北京 100049
采用双光束干涉曝光法制作大尺寸全息光栅时, 由于温度变化、空气流动、振动等因素的干扰, 曝光条纹相对于光栅基板存在平移和周期变化, 从而造成光栅对比度下降。分析了大尺寸光栅曝光过程中条纹的动态变化情况, 结果表明:3 h内条纹平移和周期变化的均方根值分别为1.87、1.20个条纹周期, 对比度的数值模拟结果分别为12.83%、67.37%.构建了由三组条纹监视系统、计算控制系统和两组压电位移台组成的曝光条纹锁定系统, 实现了条纹平移和周期的同时锁定.锁定之后得到的光栅槽型和对比度明显优于未锁定时的情形, 锁定精度为:平移3σ值为0.009个条纹周期, 对比度为99.99%, 周期变化均方根值为0.017个条纹周期, 对比度为99.77%, 满足大尺寸光栅曝光对条纹稳定性的要求.
全息光栅 干涉条纹 相位锁定 光栅周期 干涉光刻 Holographic grating Interference fringe Phase locking Grating period Holographic lithography 
光子学报
2018, 47(2): 0205001

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