作者单位
摘要
1 长春理工大学 光电工程学院,长春 130022
2 长春理工大学中山研究院,中山 528436
3 吉林省教育学院 德育·综合教研培训部,长春 130022
4 光驰科技(上海)有限公司,上海 200444
可见光高透射近红外高截止滤光片采用大口径超薄尺寸的玻璃作为基板,在两面同时沉积制备而成,因此对薄膜均匀性及成膜后基板面型有着较高的要求。以Nb/Si作为薄膜靶材,采用反应溅射镀膜的方法,从靶材磁场强度分布、公-自转系统、基板夹具遮挡角度三个方面分析膜厚均匀性的差异,采用对称膜系结构,实现红外截止滤光片上下表面薄膜应力平衡。最终制备的薄膜均匀性在300 mm范围内达到0.13%,基板翘曲度为0.085 mm,满足使用需求。
光学薄膜 磁控溅射 膜厚均匀性 大口径超薄基板 红外截止滤光片 Optical thin films Magnetron sputtering Film thickness uniformity Large diameter ultra-thin substrate IR-cut filter 
光子学报
2023, 52(6): 0631001
作者单位
摘要
1 长春理工大学光电工程学院,吉林 长春 130022
2 香港理工大学工业及系统工程学系超精密加工技术国家重点实验室伙伴实验室,香港 999077
计算机数控精密机械抛光技术是制造高精度、高质量光学元件表面的主要技术之一。然而,对于碳化硅材料表面去除特性方面的研究却相对较少。在航天航空领域中,陶瓷类材料碳化硅的应用较为广泛。针对计算机数控精密机械抛光技术,根据一系列的抛光实验,研究并总结出碳化硅材料表面的去除机理。基于选择不同等级的四种变量参数:抛光磨头转速、抛光压力、磨头补偿量和抛光头角度,分析碳化硅材料表面的去除趋势。采用Taguchi方法可以有效优化实验设计参数、减少实验整体次数。结果表明:文中总结出对应的抛光参数组合和材料表面的去除特性,确保加工出高质量表面的碳化硅材料。
精密抛光 表面质量 去除特性 碳化硅 precision polishing surface quality removal characteristic silicon carbide 
红外与激光工程
2016, 45(2): 0220003
作者单位
摘要
长春理工大学光电工程学院, 吉林 长春 130022
卡塞格林系统是望远系统中最经典的反射式光学系统。常规的卡塞格林系统成像点在系统以外,可以直接采用干涉仪检验。而改良型卡塞格林系统成像点在两镜之间,无法用常规方法进行检验。基于系统特性,主要分为两步检测:对主镜进行精确检验;通过检验系统的弥散斑评价成像质量。在采用轮廓仪测量、阴影法检验以及Zygo干涉仪检测的基础上,通过搭建特殊结构对系统进行精确检测。同时,在检验过程中要边测量边修正面形,使得系统成像质量符合使用要求。
光学制造 非球面 卡塞格林系统 检验 
激光与光电子学进展
2012, 49(2): 022201

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