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同名作者【根祥】论文列表

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实验技术与元件

248 nm KrF准分子激光零级抑制石英相位掩模器的研制

根祥 ¹程美乔 ²葛璜 ²简水生 ¹王圩 ²

作者单位

摘要

¹ 北方交通大学光波技术研究所, 北京 100044

² 中国科学院半导体所国家光电子工艺中心, 北京 100083

实验研制了针对波长248 nm KrF准分子激光的零级抑制石英相位掩模器。用双层掩蔽和图形转移技术,在双面抛光的石英基片上以CHF3/O2为反应气体,用反应离子刻蚀技术制作了具有良好完整性、周期1.085 μm的石英相位掩模器。实际测量表明其零级衍射效率被抑制到5.97%。

相位掩模反应离子刻蚀光栅

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中国激光

1997, 24(7): 623

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