秦涛 1,2,3郭骏立 1,2,3张美丽 1,2韩培仙 1,2,3[ ... ]亓波 1,2
作者单位
摘要
1 中国科学院光束控制重点实验室,四川 成都 610509
2 中国科学院光电技术研究所,四川 成都 610509
3 中国科学院大学,北京 100049
星载二维转台是激光通信指向结构的重要组成部分,也是影响星载设备性能的关键部件之一,需要对其进行合理的结构设计和正确的刚度分析,并通过对比试验结果与仿真结果验证设计分析的正确性。首先,介绍了星载二维转台结构形式,基于Isight集成优化方法对比分析了摆镜组件的两种结构形式,并对U形架和轴系结构进行了刚度设计;然后,对二维转台进行有限元建模并重点介绍了轴承的弹簧单元等效建模方式;最后,对星载二维转台进行了刚度分析和试验验证,二维转台在XYZ三个方向上仿真计算的固有频率与试验结果误差在6%以内,表明等效弹簧单元能准确模拟轴承结合部的力学特性。通过对星载二维转台的力学试验验证表明,在保证了二维转台的质量约束和刚度要求下,各部分组成部件结构刚度设计和刚度分析合理,二维转台抗力学性能满足激光通信的任务需求。
星载二维转台 结构设计 刚度设计及模态分析 力学试验 spaceborne two-dimensional turntable structural design stiffness design and modal analysis mechanical test 
红外与激光工程
2022, 51(5): 20210364
秦涛 1,*高静丽 2韩颖慧 2,3杨雪 2,4[ ... ]王昕鹏 2
作者单位
摘要
1 国网天津市电力公司经济技术研究院, 天津 300171
2 华北电力大学, 河北 保定 071003
3 浙江大学能源清洁利用国家重点实验室, 浙江 杭州 310027
4 大唐桂冠山东电力投资有限公司, 山东 烟台 264000
利用红外光谱分析法对影响工业相色管褪色的主要因素进行了探究。研究发现, 高温低湿的环境对相色管褪色老化影响最大; 紫外光的照射会导致相色管固化程度提高从而出现明显的老化现象; 过酸过碱的环境也会对相色管内部分子结构造成一定影响。本文结论从相色管基团变化的角度揭示了相色管老化的成因, 为日后进一步研究相色管抗老化防褪色机制提供了可行方向。
相色管褪色 相色管老化 相色管分子结构 红外光谱 固化度 fading of power accessories aging of power accessories molecular structure of power accessories infrared spectrum curing degree 
红外技术
2016, 38(10): 899
作者单位
摘要
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209
用矢量模式场来描述二维金属光栅各层中的电磁场.由边界条件,推导出模式场方程组;借助反射透射系数阵递推算法,得出了方程组的解.这种矢量模式方法物理概念清晰且稳定收敛,可以处理任意偏振态平面波入射到二维亚波长金属光栅中的衍射问题.
二维金属光栅 矢量模式 反射透射系数阵 
光电工程
2004, 31(6): 14
作者单位
摘要
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209
弱调制介质光栅可等效为平板波导,经其衍射的高级次子波与波导模式耦合时,形成导模共振.由高级子波在介质光栅中的光程及菲涅耳相移,导出了垂直入射时弱调制介质光栅共振位置的解析表达式,其预测结果和严格耦合波理论所得值一致.导模共振对入射波参数和光栅参数极为敏感,具有窄带效应,可用来制作窄带滤波片.
导模共振 波导光栅 共振位置 
光电工程
2004, 31(2): 25
作者单位
摘要
清华大学电子工程系, 北京 100084
根据国际电信联盟(ITU-T)建议G.873定义的光传送网(OTN)中光路的假设参考模型(HRM),提出了光路经过多个光节点和光纤传输段后噪声积累的数学模型,推导了解析计算公式,并且按照节点隔离原理推导了计算噪声积累的简化公式以及工程等效模型。分析了光节点中增益(损耗)分配对噪声功率的影响,得出了光节点的优化设计原则。提出的光路噪声模型可以为光网络中光节点和光纤传输段的设计提供参考。
光通信 光传送网 噪声积累 光节点 波分复用 
中国激光
2004, 31(10): 1222
作者单位
摘要
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都,610209
详细研究了提高投影成像光刻分辨力的相移滤波技术的基本理论,给出了理论模型,进行了模拟计算.对不同掩模图形设计制作的不同优化滤波器进行光刻对比实验并取得实验结果.研究表明,相移滤波能显著提高部分相干成像系统光刻分辨力和增大焦深,同时能提高光能利用率,有利于提高光刻生产率,是一种有效提高光刻分辨力和焦深的波前工程技术.
相移滤波 投影成像光刻系统 分辨力和焦深 光能利用率 
光子学报
2003, 32(3): 323

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