杂散光是平面光栅的重要性能指标, 光栅杂散光的测量一直是光栅研制领域的难题。 为实现仪器自身杂光低于10-8量级, 以满足对平面光栅杂散光10-7量级的精确测量要求, 基于标量衍射理论和经典Fresnel-Kirchhoff衍射理论, 对光谱仪器中的光栅杂散光进行了理论分析, 设计了平行光照射条件下光栅杂散光测试仪的光机模型。 利用杂散光分析软件ASAP建立紫外单色光入射下光栅杂散光测试仪的散射模型并对其进行仿真计算, 分析仪器杂光的主要来源及散射路径, 据此提出了用于降低仪器散射光和光栅多次衍射光的挡光环、 叶片、 光阑、 光学陷阱等四种杂光抑制结构。 最后, 采用ASAP软件对增加抑制结构前后的仪器杂光相对强度进行了对照分析。 仿真及分析结果表明, 仪器杂光在测试波长±100 nm范围内的最大值由采用杂光抑制结构前的10-6量级以上降低至10-8量级以下, 已满足光栅杂散光测试仪的设计需求, 即可实现刻线密度为300～3 600 gr·mm-1的光栅杂散光10-7量级精确测量。 该研究方法及结果将为平面光栅杂散光测试仪研制提供理论依据。