表面等离子体激元具有近场增强效应，可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间，并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率，可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431 nm时，选择40 nm厚的银层，曝光深度可达200 nm,条纹周期为110 nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
干涉光刻 表面等离子体激元 克莱舒曼结构 Interference lithography Surface plasmon plortiton Kretschmann structure
介绍了一种用光栅作为外反馈元件, 采用普通大功率半导体激光器管芯作为增益介质的方案。实验中实现了输出功率大于70 mW, 边模抑制比大于30 dB。并对影响大功率外腔半导体激光器特性的参数进行了分析。
大功率 外腔 半导体激光器
介绍了一种电控调谐的外腔半导体激光器, 并对其连续调谐特性进行了理论和实验分析。压电陶瓷(PZT)(双晶片)的电扫描角度可达１°, 采用适当的外腔结构, 靠PZT可同时改变外腔腔长和光栅衍射角, 实现输出波长的调谐。该器件调谐范围最大可达15 nm, 连续调谐范围(无跳模)为50 GHz。
外腔半导体激光器 连续调谐 压电陶瓷(PZT)
