作为工业数字图像质量评价在应用领域的重要延伸，光学显微图像定量评价主要通过对图像特征和属性进行分析计算，针对性地量化评估图像的质量。近年来，随着各类光学显微成像技术的蓬勃发展，图像定量化评价的重要性日益凸显，在总体图像处理中具有指导性作用。对现有的光学显微图像定量评价指标及相关算法进行总结，对各个算法的模型结构和性能表现进行讨论说明，阐述显微图像定量评价的应用和发展趋势，并对该领域目前所存在的问题和难点进行分析和展望。

在薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)面板制程中, Gate层(栅极)电路和SD层(源极)电路根据产品电阻等要求可以使用纯金属膜层, 如钼、铜等金属膜层, 也可以使用金属复合膜层, 如铝钼、铝钕钼、钼铝钼等金属复合膜层。当使用不同金属或金属复合膜层作为Gate、SD电路时, 应当对应不同的刻蚀液。但在实际生产时, 往往是一种刻蚀液同时对应金属膜层或金属复合膜层。由于钼金属膜层的Etch Rate(刻蚀速率)大于铝钼等金属复合膜层Etch Rate, 所以当铝钼等金属复合膜层刻蚀完成后对应坡度角有时会存在异常, 如膜层角度较大(80~90°)、顶层金属钼发生尖角或缩进等现象, 产生宏观不良及进行后工序时会产生相应的光学不良或导致后层物质残留, 影响产品品质。本文针对金属膜层或金属复合膜层坡度角进行影响因素分析, 主要受刻蚀工序及曝光工序影响。通过对刻蚀液浓度调整、温度调整、刻蚀方式调整及曝光工序等调整减少金属钼发生尖角、缩进几率, 将金属膜层坡度角控制在60°左右及金属复合膜层坡度角控制在50°左右, 从而降低不良的发生率, 提高产品品质。

速率方程是研究半导体激光器瞬态过程的理论工具。为了能对实际中各种调制响应进行分析,采用小信号近似法求解了 在任意调制信号下半导体激光器的速率方程。得到了任意调制信号下半导体激光器的速率方程的实值解析解,并根据得出的 实值解析解分析了半导体激光器的一些调制响应特性,给出了一个调制信号为矩形脉冲电流的具体实例。最后研究并得出了 小信号近似法准确的严格条件。根据一些半导体激光器的实际参数,给出了该条件在某些情况下的近似表达。