1 西华师范大学 物理与电子信息学院, 四川 南充 637002
2 中国工程物理研究院 激光聚变研究中心 等离子体物理重点实验室, 四川 绵阳 621900
实验采用直流磁控溅射沉积技术在不同溅射功率下制备Mo膜,研究了不同溅射功率下Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构,并对其晶粒尺寸和应力进行了研究。利用原子力显微镜观察样品的表面形貌发现随着溅射功率的增加,薄膜表面粗糙度逐渐增大。X射线衍射分析表明薄膜呈立方多晶结构,晶粒尺寸为14.1～17.9 nm;应力先随溅射功率的增大而增大,在40 W时达到最大值(2.383 GPa),后随溅射功率的增大有所减小。
直流磁控溅射 Mo薄膜 溅射功率 表面形貌 X射线衍射 DC magnetron sputtering Mo film sputtering power surface topography Xray diffraction
