王宁 1,2,3陈宇昕 1,2,3徐文盛 1,2,3安胜利 1,2,3[ ... ]彭继华 1,2,3
作者单位
摘要
1 内蒙古科技大学材料与冶金学院, 包头 014010
2 内蒙古自治区先进陶瓷材料与器件重点实验室, 包头 014010
3 轻稀土资源绿色提取与高效利用教育部重点实验室, 包头 014010
以粉煤灰、铁尾矿为主要原料, 采用高温烧结活化-水热合成工艺制备了新型沸石化陶粒。利用高温烧结得到烧结陶粒的同时对原料中的莫来石等惰性相产生活化作用, 后续采用水热反应对基础陶粒进行沸石化改性, 增加其比表面积及吸附能力。研究表明最佳的制备工艺条件为:m(粉煤灰)∶m(铁尾矿)∶m(石英砂)=7∶1∶2, 烧结温度1 040 ℃, 烧结时间30 min, NaOH溶液浓度1.5 mol/L, 水热温度160 ℃, 水热时间12 h。XRD、SEM、FT-IR和Raman结果表明, 制备的沸石化陶粒的主晶相为P型沸石和方沸石, 其比表面积从基础陶粒的1068 m2/g增加至35.770 m2/g, 同时, 对NH+4-N离子的最大吸附容量由基础陶粒的1.82 mg/g增加至13.34 mg/g, 分别增加至基础陶粒的33.49倍和7.33倍, 结果表明沸石化陶粒在废水处理中具有潜在的应用前景。
粉煤灰 铁尾矿 沸石 陶粒 吸附 废水处理 fly ash iron tailing zeolite ceramsite adsorption wastewater treatment 
硅酸盐通报
2023, 42(5): 1864
作者单位
摘要
1 福建师范大学光电与信息工程学院,信息光子学研究中心,福建 福州 350117
2 福建师范大学医学光电科学与技术教育部重点实验室,福建省光子技术重点实验室,福建省光电传感应用工程技术研究中心,福建 福州 350117
偏光全息中的零再现是指在读取光满足布拉格条件下,再现光的功率却为零的现象。在通常的强度全息中,则没有零再现现象。本文根据张量偏光全息理论预测出实现零再现的条件,并推导了同偏振记录偏光全息的再现光场实现零再现的条件。在实验中,先用两束椭圆偏振光并且干涉角度为136°来记录偏光全息;然后按照理论计算结果,改变参考光的偏振态成为一束特定偏振态,用这一束特定的偏振光进行读取,实现了零再现,验证了理论预测的正确性。

偏光全息 椭圆偏振 张量理论 零再现 相同偏振态 polarization holography elliptically polarized tensor theory null reconstruction same polarization state 
光电工程
2022, 49(5): 210454
作者单位
摘要
1 洛阳师范学院 物理与电子信息学院,河南洛阳47000
2 北京卫星环境工程研究所,北京100094
3 重庆大学 光电工程学院,重庆400044
本文利用优化的种子层结构和工艺参数,以AlSc合金靶为靶源,以脉冲直流反应磁控溅射AlSc合金靶的方式在室温下制备了ScAlN薄膜,同时设计并制作了压电测试专用结构,解决了ScAlN腐蚀工艺不成熟的问题,结合X射线衍射仪、扫描电镜、能谱仪、准静态d33分析仪、纳米压痕法等方法表征了薄膜的结晶质量、组成成分和机电耦合系数等性能。由表征结果可知,所制备的Sc0.35Al0.65N薄膜具有高度c轴择优取向,摇摆曲线的半高宽低至2.167°,同时结晶致密,有少量贝壳状凸起。薄膜的压电常数d33-23.4 pC/N,机电耦合系数k332kt2分别为34.6%和25.7%,具有制备FBAR等高性能压电MEMS器件的潜力。
薄膜 磁控溅射 氮化铝钪 半高全宽 d33压电常数 film magnetron sputtering ScAlN Full Width Half Maximum(FWHM) piezoelectric constant d33 
光学 精密工程
2021, 29(1): 21
作者单位
摘要
1 福建师范大学光电与信息工程学院, 信息光子学研究中心, 福建 福州350117
2 福建师范大学医学光电科学与技术教育部重点实验室, 福建省光子技术重点实验室, 福建 福州350117
报道了正交线偏光全息中的正交再现现象。所谓的正交再现,指的是衍射光的偏振态与记录信号光的偏振态是正交的。基于新发展的张量偏光全息理论,分析了正交再现的条件;搭建实验平台,在实验上观察到正交再现现象。通过定量分析与多组实验,可以得出当衍射光实现正交再现时,其功率大小与记录过程中信号光和参考光的干涉夹角有关。实验结果和理论分析结果完全吻合。正交再现现象的发现,有望拓展对偏光全息理论的认知。
全息 偏振态 张量理论 正交再现 
激光与光电子学进展
2021, 58(4): 0409001
陈宇昕 1,2,*刘玉菲 1,2尚正国 1,2
作者单位
摘要
1 重庆大学 光电工程学院, 重庆 400044
2 重庆大学 光电技术及系统教育部重点实验室, 重庆 400044
为了制备出压电性能良好、c轴择优生长的氮化铝钪压电薄膜, 本文利用脉冲直流反应磁控溅射法制备了几组氮化铝钪薄膜, 通过控制变量, 并利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和压电系数测试仪等测试设备, 研究了气体流量、功率、衬底温度、缓冲层结构以及掺钪对薄膜结晶质量及性能的影响, 优化了工艺参数。结果表明, 相比于钛铂缓冲层, 使用氮化铝/钛/铂缓冲层制备薄膜, 可以使摇摆曲线半高宽由2.62°降至2.38°。然后, 对钪掺杂机理进行了简单分析, 本文所制备氮化铝钪薄膜的纵向压电系数d33高达-10.5 pC/N, 是纯氮化铝压电系数的1.9倍, XRD图谱及SEM图像表明, 在该掺杂浓度下, 压电系数的提高主要是通过钪掺杂产生的晶格畸变引起, 而非改变了晶体结构。
压电薄膜 氮化铝钪 磁控溅射 工艺参数 pizeoelectric film ScAlN magnetron sputter process parameter 
光学 精密工程
2020, 28(9): 1924
作者单位
摘要
福建师范大学光电与信息工程学院信息光子学研究中心, 福建 福州 350117
在基于张量的偏光全息理论的基础上,使用偏振方向在入射面内的线偏振光作为记录参考光,记录干涉夹角为90°时,只需满足再现光与记录参考光的偏振方向非相互正交,就可以实现对信号光偏振态的忠实再现,再现光光强受读取参考光偏振态的影响。理论与实验结果证实了这一更宽松条件下对信号光忠实再现的可能性。该结论有助于拓展人们对偏光全息理论的认知,并可依此结论设计和制作出用于改变入射光传播方向的偏振器件。
全息 偏振态 张量理论 忠实再现 
光学学报
2020, 40(23): 2309001

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